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技术资料

浅谈等离子体的刻蚀技术

 

  等离子体刻蚀技术中采用的等离子体是在0.01-1.0真空中辉光放电所形成的非平衡低温等离子体,这种等离子体的特点是电离度低。

  离子通常少于1%而90%以上都是中性粒子,自由电子和气体分子之间缺乏热平衡,气体温度不过50-250℃,在电场作用下电子、离子、中性态和激励态分子之间会发生一系列互作用——弹性或非弹性碰撞。

  在电子与气体分子的弹性碰撞中只有少量电子能量转移给气体分子而使气体温度上升,在非弹性碰撞中电子失去的能量要多得多,它激励分子的内部运动如振动、转动或电子跃迁从而产生了离子、自由基或亚稳态活性体等。

  等离子体是一种电中性、高能量、全部或部分离子化的气态物质,包含离子、电子、自由基等活性粒子,借助高频电磁震荡、射频或微波、高能射线、电晕放电、激光、高温等条件产生。

  等离子体清洗是通过其所含的活性粒子与污染物分子反应使其从固体表面分离来进行的,是一种干式清洗技术,能够替代传统的湿法清洗技术,能够在不破坏材料表面特性的前提下,有效清除材料表面的微尘及其它污染物。

  等离子体清洗与常规的化学清洗相比具有如下优势:

  1、等离子体清洗时不需要加热处理,在常温或低温环境都具有高效的清洗效果;

  2、等离子体避免了湿式化学清洗中应用酸、碱或有机溶剂等物质带来的腐蚀等危险,安全可靠;

  3、等离子体清洗无废液产生,保护环境,最后,等离子体清洗技术最大的特点是不分处理对象的基材类型,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,如聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、环氧等都能很好地处理,并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。本文编辑于//www.1plasma.cn

 

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