低温等离子处理机的清洗原理

低温等离子处理机的等离子体是正离子和电子的密度大致相等的电离气体。由离子、电子、自由激进分子、光子以及中性粒子组成，是物质的第四态。

通常情况下，人们普遍认为的物质有三态：固态、液态、气态。区分这三种状态是靠物质中所含能量的多少。气态是物质的三个状态中高的的能量状态。

给气态物质更多的能量，比如加热，将会形成等离子体。当到达等离子状态时，气态分子裂变成了许许多多的高度活跃的粒子。这些裂变不是 **的，一旦用于形成等离子体的能量消失，各类粒子重新结合，形成原来的气体分子。

利用低温等离子体处理技术在本世纪六十年代起就开始应用于化学合成、薄膜制备、表面处理和精细化工等领域，在大规模或超大规模集成电路工艺干法化、低温化方面，在近年来也开发应用了等离子体聚合、等离子体蚀刻、等离子体灰化及等离子体阳极氧化等全干法工艺技术。等离子清洗技术也是工艺干法化的进步成果中的一个。

与湿法清洗不同，等离子清洗的机理是依靠处于“等离子态”的物质的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。从目前各类清洗方法来看，可能等离子体清洗也是所有清洗方法中 *为彻底的剥离式的清洗。

目前就国内来说等离子清洗这一运用还是相当的普遍的了。特别是近几年，随着等离子电视，等离子切割机等等，这些高科技产品的不断衍生，等离子这个高科技技术已经和我们的工业产品有着很密切的关系了。

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