等离子清洗机在去除晶圆键合胶光刻胶的应用

随着科学技术的飞速发展，LED产业对环保和性能的要求越来越高。在LED行业中，晶圆是整个LED的重要组成部分，而晶圆光刻胶的去除是整个LED元件中 *重要的技术部分。这也是LED技术的关键。

说到晶圆，我们将讨论光刻胶和蚀刻。晶圆光刻胶是一种有机化合物胶。在光，特别是紫外光的照射下，其在显影液中的溶解度将浓缩。曝光后烘烤固体。

光刻胶，是由光敏树脂、敏化剂和溶剂组成的光敏混合液。光刻胶通过曝光、显影和蚀刻在结构平面的每一层上形成所需图案。当处理下一层时，需要完全去除前一次使用后的光刻胶。

在从预定义图形中去掉不需要的局部区域并保留要保留的区域，以及将图形传输到选定图形的过程中，需要进行等离子处理。

等离子体处理具有外形美观、钻孔小、表面和电路损伤小、清洁、经济、安全等优点。选择性大，蚀刻均匀性好，重复性高。处理过程无污染，清洁度高。

 等离子体清洗机在去除光刻胶中的具体用途：

 等离子清洗机的应用包括预处理、灰化/光刻胶/聚合物剥离、晶圆凸点、消除静电、电介质蚀刻、去除有机污染物、晶圆减压等。使用等离子清洗机不仅可以完全去除光刻胶等有机物，还可以活化和粗化晶圆表面，改善晶圆表面的润湿性，使晶圆表面更具粘性。

 与传统设备相比，等离子清洗机作为一种干洗设备，晶圆光刻胶等离子体清洗机具有许多优点。设备成本不高。此外，清洗过程中的气固相干反应不消耗水资源，也不需要使用昂贵的有机溶剂，这使得整体成本低于传统的湿法清洗工艺。此外，还解决了湿法去除硅片表面光刻胶反应不准确、清洗不彻底、易引入杂质等缺点。它不需要有机溶剂，也不污染环境。它属于一种低成本的绿色清洁方法。

 晶圆清洗-等离子清洗机用于在晶圆凸点加工之前去除污染。它还可以去除有机污染物、氟和其他卤素污染、金属和金属氧化。

晶圆蚀刻-等离子清洗机预处理晶圆的残余光刻胶和BCB，重新分配图案介电层和线/光刻胶蚀刻，提高晶圆材料表面的附着力，去除多余的塑料密封材料、环氧树脂和其他有机污染物，提高金焊料凸点的附着力，减少晶圆压力破碎，提高旋转涂覆膜的附着力。

参考机型：

GD-125真空等离子清洗机，连接：http://www.1plasma.cn/down/html/?41.html

——本文来自http://www.1plasma.cn